中科院：上海光機(jī)所計(jì)算光刻技術(shù)研究取得進(jìn)展

　　中證網(wǎng)訊（記者 王可 李嵐君）6月10日，中國(guó)科學(xué)院官網(wǎng)刊文稱，近日，中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所（簡(jiǎn)稱“上海光機(jī)所”）信息光學(xué)與光電技術(shù)實(shí)驗(yàn)室在計(jì)算光刻技術(shù)研究方面取得進(jìn)展，提出了一種基于虛擬邊與雙采樣率像素化掩模圖形的快速光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)（OPC）。在光刻機(jī)軟硬件不變的情況下，采用數(shù)學(xué)模型和軟件算法對(duì)照明模式、掩模圖形與工藝參數(shù)等進(jìn)行優(yōu)化，可有效提高光刻分辨率、增大工藝窗口，此類技術(shù)即計(jì)算光刻技術(shù)。該技術(shù)被認(rèn)為是推動(dòng)集成電路芯片按照摩爾定律繼續(xù)發(fā)展的新動(dòng)力。